ASML heeft zijn eerste high-NA-euv-chipproductiemachine voor massaproductie geleverd aan een klant. Dat maakte de Veldhovense chipmachinemaker op woensdag bekend. High-NA is de tweede euv-generatie, die het mogelijk moet maken om kleinere transistors af te beelden.
De eerste TwinScan EXE:5200B-machine is vorig kwartaal geleverd, vertelt ceo Christophe Fouquet tijdens de presentatie van ASML's kwartaalcijfers. Het is een belangrijke mijlpaal voor het bedrijf: high-NA is de volgende generatie van ASML's euv-machines, die sinds 2019 worden gebruikt voor het maken van geavanceerde chips.
De machine is geleverd aan Intel, vermoedelijk voor de D1X-fabriek in Oregon. Intel heeft openlijk de eerste high-NA-machine besteld. Intel is bovendien de eerste chipfabrikant die al een procedé op basis van high-NA op zijn openbare roadmap heeft staan: Intel 14A. Overigens hebben ook andere chipmakers high-NA-machines bij ASML besteld, waaronder TSMC en Samsung.
ASML-ceo Christophe Fouquet bevestigde begin dit jaar al tegenover Tweakers dat de EXE:5200B-machine snel geleverd zou worden, maar op woensdag is voor het eerst bevestigd dat dit inderdaad is gebeurd.
Wil je weten hoe de euv-machines van ASML precies werken? Tweakers publiceerde onlangs een uitlegartikel over deze chipproductietechniek. We zetten daarin uiteen waar ASML zich precies mee bezighoudt, wat euv precies inhoudt en hoe de machines in elkaar steken. Je kunt dat artikel hier lezen.
ASML werkt al sinds 2014 aan high-NA. Het betreft een doorontwikkeling van ASML's 'gewone' euv-machines. Ze gebruiken dezelfde lichtgolflengte van 13,5nm, maar krijgen nieuwe optiek met een grotere 'numerieke apertuur' van 0,55. Dat betekent dat de optiek van de machines meer licht kan opvangen en scherpstellen, wat gelijkstaat aan een hogere 'resolutie'.
In theorie kunnen chipmakers hiermee kleinere transistors afbeelden, zonder 'trucjes' te moeten toepassen, zoals multipatterning. Daarbij worden chips meerdere keren belicht. Dat maakt kleinere transistors mogelijk met oudere machines, maar verhoogt tegelijkertijd de productietijd en de kans op printfouten.
ASML zegt dat zijn high-NA-machines een theoretische resolutie van 8nm bieden, waar dat bij de huidige machines nog 13nm was. Deze getallen komen overigens niet overeen met de 'nanometers' die chipmakers als TSMC en Intel gebruiken voor hun procedés; die zijn vooral berust op marketing en komen niet overeen met de werkelijke afmetingen van de transistors.
Met het leveren van de eerste EXE:5200B-machine is high-NA-euv nu écht klaar voor gebruik in de praktijk. ASML levert sinds 2023 al EXE:5000-machines aan klanten; dat zijn ook high-NA-machines, maar die waren vooral bedoeld voor testproductie en r&d. Verschillende fabrikanten hebben een dergelijke machine ontvangen, waaronder TSMC en Intel.
De nieuwere EXE:5200B heeft een grotere throughput, wat betekent dat de machine sneller chips kan printen. ASML zegt dat de 'productiviteit' van de nieuwe systemen zestig procent hoger ligt dan bij de EXE:5000-testmachines. Dat komt neer op 175 wafers per uur, wat volgens de chipmachinemaker voldoende is voor 'volumeproductie', oftewel productie op grote schaal. Chipmakers kunnen er chips mee gaan maken die daadwerkelijk op de markt komen.
Het zal overigens nog even duren voordat de eerste chips op basis van high-NA daadwerkelijk op de markt komen. Chipmakers moeten zelf bepalen wanneer het gebruik van high-NA voor hen rendabel genoeg is om toe te passen, zo zei ASML eerder al. Intel is vooralsnog het eerste bedrijf dat daaraan een tijdlijn heeft gekoppeld; zijn 14A-node met high-NA verschijnt over een paar jaar. De relatief kleinschalige 'riskproductie' van Intel 14A begint in 2027, gevolgd door massaproductie ergens in het jaar daarop. TSMC en Samsung hebben nog niet concreet aangegeven wanneer ze high-NA gaan gebruiken.
Source: Tweakers.net